没有多少人知道，由院长邓光辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过近3年的潜心研究，在1999年7月就掌握了浸没式光刻系统技术，研发成功全球第一台65nm制程工艺的浸没式光刻机...